Plasma Chemistry And Plasma Processing
期刊简称：PLASMA CHEM PLASMA P
期刊ISSN：0272-4324
是否开源：No
是否SCI：SCIE、SCI
出版地：UNITED STATES
审稿周期：Quarterly
创刊年份：1981
研究方向：工程技术
所在分区：3区
Plasma Chemistry And Plasma Processing杂志简介
《Plasma Chemistry And Plasma Processing》是一本由SPRINGER出版商出版的专业工程技术期刊，该刊创刊于1981年，刊期Quarterly，该刊已被国际权威数据库SCIE、SCI收录。在中科院最新升级版分区表中，该刊分区信息为大类学科：工程技术 3区，小类学科：工程：化工 3区；物理：应用 3区；物理：流体与等离子体 3区；在JCR（Journal Citation Reports）分区等级为Q2。该刊发文范围涵盖工程：化工等领域，旨在及时、准确、全面地报道国内外工程：化工工作者在该领域取得的最新研究成果、工作进展及学术动态、技术革新等，促进学术交流，鼓励学术创新。2021年影响因子为3.337，平均审稿速度较慢,6-12周。Plasma Chemistry And Plasma ProcessingJCR分区(JCR2021-2022年分区)
| JCR分区等级 | JCR所属学科 | 分区 | 影响因子 |
| Q2 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | Q2 | 3.337 |
| PHYSICS, APPLIED | Q2 | ||
| ENGINEERING, CHEMICAL | Q2 |
Plasma Chemistry And Plasma Processing期刊近7年影响因子变化趋势
